<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Покриття on UV Curing Flow</title>
		<link>http://uv-curing-flow.com/uk/tags/%D0%BF%D0%BE%D0%BA%D1%80%D0%B8%D1%82%D1%82%D1%8F/</link>
		<description>Recent content in Покриття on UV Curing Flow</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>uk</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Fri, 19 Jun 2026 09:20:24 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://uv-curing-flow.com/uk/tags/%D0%BF%D0%BE%D0%BA%D1%80%D0%B8%D1%82%D1%82%D1%8F/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Лампа для висихання UV лаку</title>
				<link>http://uv-curing-flow.com/uk/posts/uv-coating-curing-machine-lamp/</link>
				<pubDate>Fri, 19 Jun 2026 09:20:24 +0800</pubDate>
				<guid>http://uv-curing-flow.com/uk/posts/uv-coating-curing-machine-lamp/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://uv-curing-flow.com/images/9077c93f1832a70892d6b411b332986f.png&#34; alt=&#34;Лампа для висихання UV лаку&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;На прес-станції лампа УФ, яка не підходить для конкретної роботи, не лише уповільнює процес нанесення покриття. Вона також призводить до того, що покриття залишається незакріпленим, порушується зчеплення між шарами покриття, а також створюється накопичення розчинників у системі. Ми розробляємо лампи для висушування покриттів на основі спектральних характеристик фотоініціаторів та законів функціонування ртутного пару. Саме так можна наносити одне й те саме покриття на пресах типу офсет, флексо чи сітковий друк, отримуючи стабільний ефект скріплення шарів покриття при кожному процесі нанесення.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
