<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Покрытие on UV Curing Flow</title>
		<link>http://uv-curing-flow.com/ru/tags/%D0%BF%D0%BE%D0%BA%D1%80%D1%8B%D1%82%D0%B8%D0%B5/</link>
		<description>Recent content in Покрытие on UV Curing Flow</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>ru</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Fri, 19 Jun 2026 09:20:24 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://uv-curing-flow.com/ru/tags/%D0%BF%D0%BE%D0%BA%D1%80%D1%8B%D1%82%D0%B8%D0%B5/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Лампа для отверждения УФ краски</title>
				<link>http://uv-curing-flow.com/ru/posts/uv-coating-curing-machine-lamp/</link>
				<pubDate>Fri, 19 Jun 2026 09:20:24 +0800</pubDate>
				<guid>http://uv-curing-flow.com/ru/posts/uv-coating-curing-machine-lamp/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://uv-curing-flow.com/images/9077c93f1832a70892d6b411b332986f.png&#34; alt=&#34;Лампа для отверждения УФ краски&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;На печатном станке лампа УФ, не соответствующая требованиям процесса покрытия, не только замедляет работу оборудования, но и приводит к тому, что покрытие не засыхает полностью. Это также вызывает проблемы с адгезией слоев покрытия между собой, а также создает проблемы с скоплением растворителей в системе печати. Мы разрабатываем лампы для УФ-засыхания с учетом спектра излучения фотоинициаторов и физических свойств паров ртути. Таким образом можно использовать одно и то же покрытие для офсетной, флексографской и штрих-печати, обеспечивая повторяемость процесса покрытия при каждой работе.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
