<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Лаборатория on UV Curing Flow</title>
		<link>http://uv-curing-flow.com/ru/tags/%D0%BB%D0%B0%D0%B1%D0%BE%D1%80%D0%B0%D1%82%D0%BE%D1%80%D0%B8%D1%8F/</link>
		<description>Recent content in Лаборатория on UV Curing Flow</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>ru</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Thu, 18 Jun 2026 07:08:39 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://uv-curing-flow.com/ru/tags/%D0%BB%D0%B0%D0%B1%D0%BE%D1%80%D0%B0%D1%82%D0%BE%D1%80%D0%B8%D1%8F/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>УФ лампа для лабораторного анализа</title>
				<link>http://uv-curing-flow.com/ru/posts/uv-lamp-for-laboratory-analysis/</link>
				<pubDate>Thu, 18 Jun 2026 07:08:39 +0800</pubDate>
				<guid>http://uv-curing-flow.com/ru/posts/uv-lamp-for-laboratory-analysis/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://uv-curing-flow.com/images/073c64da7862620d00d3df08d4a4560d.jpg&#34; alt=&#34;УФ лампа для лабораторного анализа&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;На производстве линия для обработки светом УФ не останавливается, что позволяет добиться высокой степени воспроизводимости результатов. Но при проведении спектральной проверки, настройке параметров фотоинициатора или тестировании новых партий краски лампа должна обеспечивать стабильную и предсказуемую мощность излучения — каждый раз. Именно из-за этой разницы между требованиями лаборатории и реалиями производства мы создали лампы УФ для лабораторного использования с такой же структурой затрат, как у ламп промышленного назначения.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Что имеет значение внутри лампы&lt;/strong&gt;&#xA;Мы проектируем эти устройства с учетом контролируемого спектра излучения и возможности получения одинаковой интенсивности освещения. Если нужно полное высыхание толстых слоев краски, выбирайте длину волны 365 нм; для балансировки процессов связывания на поверхности и в глубине материала — 385 нм; а для формул краски, работающих при более длинных длинах волн — 405 нм. Максимальная интенсивность излучения указывается для точки, где происходит излучение, а плотность энергии остается постоянной на всей ширине поверхности. Рефлектор использует дихроичное покрытие, что позволяет направлять больше полезного УФ-излучения в цель, а также сокращает количество лишнего инфракрасного излучения. Работа без озона делает окружающую среду более безопасной и снижает количество простоев из-за технических неисправностей.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
			<item>
				<title>УФ лампа для полимеризации для зуботехнической лаборатории</title>
				<link>http://uv-curing-flow.com/ru/posts/uv-curing-lamp-for-dental-lab/</link>
				<pubDate>Sun, 07 Jun 2026 05:53:54 +0800</pubDate>
				<guid>http://uv-curing-flow.com/ru/posts/uv-curing-lamp-for-dental-lab/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://uv-curing-flow.com/images/b2e443d44e8aa49e3e4d2f698d9d50a7.jpg&#34; alt=&#34;УФ лампа для полимеризации для зуботехнической лаборатории&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;На флексографском прессе размытие и ореолы обычно появляются, когда UV-система не может поддерживать стабильный спектральный выход и уровень излучения от одной партии к другой. Край краски остаётся липким, увеличивается прирост точки, и начинаются смещения регистрации. В результате приходится постоянно корректировать цвет, списывать тиражи и тратить время впустую.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;h2 id=&#34;что-действительно-важно-внутри&#34;&gt;Что действительно важно внутри&lt;/h2&gt;&#xA;&lt;p&gt;Мы разрабатываем лампу с акцентом на повторяемую подачу энергии. Ртутная лампа высокого давления в сочетании с дихроическим отражателем обеспечивает попадание в зону поглощения фотоинитиаторов на длине волны 365 нм с при этом стабильным плечом 385–405 нм для поверхностного отверждения. Пиковая освещённость на плёнке превышает 2,5 W/cm², что обеспечивает сшивку за миллисекунды.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
